مبانی لایه نشانی شیمیایی بخار (CVD)

Fundamentals of Chemical Vapor Deposition

مبانی لایه نشانی شیمیایی بخار (CVD)

ABSTRACT

Chemical vapor deposition is a synthesis process in which the chemical constituents react in the vapor phase near or on a heated substrate to form a solid deposit. The CVD technology combines several scientific and engineering disciplines including thermody- namics, plasma physics, kinetics, fluid dynamics, and of course chemistry. In this chapter, the fundamental aspects of these disci-plines and their relationship will be examined as they relate to CVD.

  

 جهت دانلود رایگان نسخه لاتین این مقاله اینجا کلیک کنید .

چکیده

لایه نشانی شیمیایی بخار یک فرایند سنتز است که در آن، اجزای شیمیایی در فاز بخار، نزدیک یه یا روی یک زیرلایه گرمایافته واکنش می دهند تا یک لایه جامد تشکیل دهند. فناوری CVD برخی اصول علمی و مهندسی شامل ترمودینامیک، فیزیک پلاسما، سینتیک، دینامیک سیالات و البته شیمی را ترکیب می کند. در این فصل، جنبه های مبنایی این اصول و رابطه آنها تا جایی که به CVD مربوط باشد بررسی خواهد شد.