خواص لایه های رسوب نشانی شده CdTe به روش تبخیر باریکه الکترونی

Properties of CdTe films deposited by

electron beam evaporation

خواص لایه های رسوب نشانی شده  CdTe به روش تبخیر باریکه الکترونی 

ABSTRACT

Cadmium telluride thin films were prepared by electron beam evaporation on glass substrates kept at different temperatures in the range 30 - 300 °C. The films were characterized by X-ray diffraction, scanning electron microscopy and optical absorption measurements. The conductivity of the films was measured in the temperature range 100 - 300 K. While the low temperature data (100 - 200 K) could be explained by the variable range hopping process, the high temperature data (200 - 300 K) could be explained on the basis of Seto's model for thermionic emission of the carriers over the grain boundaries. Transmission spectra have indicated a direct band gap around 1.55 eV.

   

 جهت دانلود رایگان نسخه لاتین این مقاله اینجا کلیک کنید .

چکیده

لایه های نازک کادمیم تلوراید به روش تبخیر باریکه الکترونی (Electron Beam Evaporation) روی زیرلایه شیشه ای که در دماهای متفاوت در بازه C°300- 30 قرار داشت، ساخته شدند. لایه ها به روش پراش اشعه X، میکروسکوپ الکترونی روبشی و اندازه گیری جذب نور مورد آنالیز قرار گرفتند. رسانش لایه ها در بازه دمایی K 300- 100 اندازه گیری شد. در حالیکه داده های دما پایین (K 200- 100) را می توان با استفاده از مدل variable range hopping تشریح نمود، داده های دما بالا  (K 300- 200) را می توان بر اساس مدل Seto برای نشر گرمایونی حامل ها در مرزدانه ها توضیح داد. طیف عبوردهی، باندگپ مستقیمی به اندازه حدود eV 55/1 نشان داد.